题目内容
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[主观题]
如图,一质量为m的质点,在半径为R的半球形容器中,由静止开始自边缘上的A点滑下,到达最低点B时,它
对容器的正压力数值为N,求质点自A滑到B的过程中,摩擦力对其做的功。
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内璧作匀速圆周运动时,它距碗底有多高?
A.54.5N
B.58.8N
C.42.5N
D.37.8N
如图所示,一个半径为R的均匀带电圆板,其电荷面密度为σ(>0)今有一质量为m,电荷为-q的粒子(q>0)沿圆板轴线(x轴)方向向圆板运动,已知在距圆心O(也是x轴原点)为b的位置上时,粒子的速度为v0,求粒子击中圆板时的速度(设圆板带电的均匀性始终不变),
与直导体的轴平行,两轴相距为d。导体中有电流I沿轴向流过,并均匀分布在横截面上。试用安培环路定理求空腔中心的磁感应强度,你能证明空腔中的磁场是匀强磁场吗?