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[判断题]

金属氧化物半导体场效应管是集成电路中最重要的单极器件。()

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第1题
TTL集成电路,()。

A.采用的是金属-半导体-MOS场效应管逻辑

B.采用的是晶体管-晶体管逻辑

C.电源一般为+5V

D.电源一般为-5V

E.电源一般为+9V

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第2题
把金属氧化物陶瓷半导体材料,经成形、烧结等工艺制成的测温元件叫做()。
把金属氧化物陶瓷半导体材料,经成形、烧结等工艺制成的测温元件叫做()。

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第3题
关于压敏电阻的工作原理,下列描述正确的是()。

A.压敏电阻是以ZnO为主要成分的金属氧化物半导体线性电阻

B.当作用在其两端的电压达到一定数值后,电阻对电压十分敏感

C.当电压超过某个值时间,电阻变得非常大

D.以上描述都正确

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第4题
半导体三极管与场效应管的一个重要区别是:半导体三极管是()控制元件,场效应管为()控制元件。
半导体三极管与场效应管的一个重要区别是:半导体三极管是()控制元件,场效应管为()控制元件。

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第5题
场效应管是在()之后发展起来的一种较特殊的半导体器件。

A.晶体二极管

B.晶闸管

C.晶体三极管

D.达林顿管

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第6题
新兴工业中的半导体、集成电路等工业布局的决定性条件是 ()A.知识技术;洁净优美的环境

新兴工业中的半导体、集成电路等工业布局的决定性条件是 ()

A.知识技术;洁净优美的环境和现代化高速交通运输条件

B.社会服务和生产协作条件

C.有大量廉价的劳动力

D.接近原料产地、能源充足

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第7题
扩散是半导体掺杂的重要方法之一,广泛应用于集成电路中,形成晶体管的基极、发射极、集电极,电阻,MOS工艺中形成源极、漏极、互连引线等。()

此题为判断题(对,错)。

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第8题
MEMS分类的描述中,正确的是()。

A.特征尺寸通常是指集成电路中半导体器件的最大尺寸

B.特征尺寸在1mm-l0mm的为小型机械

C.特征尺寸在1um-1mm的为微型机构

D.特征尺寸在1nm-1um的为纳米机械

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第9题
根据本讲,下列关于我国集成设备市场现状说法正确的是()?

A.我国在集成电路的生产上已经取得长足发展

B.集成电路设备领域仍是我国短板

C.IC设计领域仍是我国短板

D.我国占据全球半导体市场需求的绝对龙头地位

E.我国半导体市场需求仍然在大幅度提升

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第10题
下列说法中正确的是()。A.碱性氧化物一定是金属氧化物B.金属氧化物一定是碱性氧化物C.酸性氧化物

下列说法中正确的是()。

A.碱性氧化物一定是金属氧化物

B.金属氧化物一定是碱性氧化物

C.酸性氧化物一定是非金属氧化物

D.非金属氧化物一定是酸性氧化物

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第11题
金属氧化物避雷器的试验中要求0.75V1mA下的泄漏电流不应大于50μA。()
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