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集成电路制造工艺中,主要有哪两种隔离工艺?目前的主流深亚微米隔离工艺是哪种器件隔离工艺,为什么?

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第1题
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A.化学汽相沉积

B.原子层沉积

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第2题
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第3题
简述cmOS工艺流程。简述cmOS集成电路制造的过程中需要重复进行的工艺步骤。
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第4题
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B.主频单位

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第5题
目前世界各国多半导体芯片的保护主要集中在()。

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第6题
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第8题
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D.制造规程

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第9题
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第10题
太阳能电池种类主要有哪两种类型?
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第11题
为什么说半导体材料在集成电路的制造中起着根本件的作用?
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